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基于二氧化铈磨料的抛光液

基于二氧化铈磨料的抛光液具有高速去除二氧化硅，高选择比，高平坦化效率等优点。用于集成电路制造工艺中浅槽隔离和其他需要高速去除二氧化硅的抛光工艺中，并且根据客户需要开发多种新产品。